中國等離子體刻蝕機(jī)達(dá)到世界先進(jìn)水平
/kjqy/20170430095416088MLa.shtml
來源: 科技日報
作者:南皮縣產(chǎn)學(xué)研科技成果轉(zhuǎn)化服務(wù)中心
日期:
2017-04-30
日前,央視財經(jīng)頻道播出的《感受中國制造》第五集《中國“芯”力量》介紹了中國在半導(dǎo)體設(shè)備和半導(dǎo)體原材料上取得的成績和進(jìn)步。其中,最引人矚目的莫過于中國企業(yè)在刻蝕機(jī)上取得的成績——16nm刻蝕機(jī)實現(xiàn)商業(yè)化量產(chǎn)并在客戶的生產(chǎn)線上運(yùn)行,7-10nm刻蝕機(jī)設(shè)備可以與世界最前沿技術(shù)比肩。